集微網消息，據韓媒報道，ASML財報稱，在EUV High-NA業務中，公司收到了TWINSCAN EXE:5200的額外訂單，所有當前的EUV客戶都已經下單了下一代半導體設備“High-NA”，這其中包括三星和SK海力士。

據悉，High-NA EUV設備是表示光的集光能力的鏡頭開口數（NA）從0.33提高到0.55的設備。與現有EUV設備相比，High-NA EUV設備可以繪制出更細微的半導體電路。因此業內普遍認為，要實現2nm工藝，High-NA設備將起到關鍵作用，甚至是必要條件。此前英特爾、臺積電都已宣布訂購“High-NA”EUV設備，隨著三星電子和SK海力士的入局，2nm制程技術的爭奪將更加激烈。

據韓國設備商透露，現款EUV光刻機的訂貨價是2000~3000億韓元（約合10~16億元人民幣），而高NA EUV光刻機的報價翻番到了5000億韓元（約合26億元人民幣）。

ASML首席執行官兼總裁Peter Wennink表示：“由于包括通貨膨脹、消費者信心指數下跌、經濟衰退風險等多個全球宏觀經濟的問題，市場存在不確定性，雖然感知到不同市場的不同需求變化，但整體上ASML的系統需求仍然強勁，”并稱“在此情況下，第三季度預訂銷售額約89億歐元，其中High-NA系統等EUV設備銷售額達到38億歐元。”

但是, 根據韓媒報道，三星和SK海力士方面就引進High-NA EUV設備時表示：“這是不能正式公開的事情。”

（校對/趙月）
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