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臺積電3nm制程工藝取得重大突破

發布時間:2022-04-13 ???? 點擊:

來源:全球半導體觀察    原作者:Viki    

   
 

據臺媒《經濟日報》4月13日報道,臺積電高雄廠12日通過環評,預計2023年7月啟動投產,比原預期提早半年。

臺積電曾于2021年1月表示,公司計劃在高雄設立7/28nm制程晶圓廠,預計2022年動工,2024年量產。

報道指出,臺積電前進高雄蓋廠再邁大步,新廠所在地“楠梓產業園區設置計劃”,12日通過環評,預計今年4月底完成園區核定程序、5月土地點交及廠商取得建照,6月園區公共設施及臺積電建廠就可同步動工。

據悉,臺積電將于14日舉行法說會,外界聚焦第二季展望、成熟制程等議題。

另據臺媒《聯合報》報道,近期,臺積電3nm制程工藝取得重大突破,這項因開發技術限制而延誤的工藝即將面世。

報道稱,臺積電決定2022年量產第二版3nm制程N3B,將于2022年8月份在新竹12廠研發中心第八期工廠及南科18廠P5廠同步投片,正式以鰭式場效晶體管(FinFET)架構,對決三星的環繞閘極(GAA)制程。

據了解,目前,臺積電初步規劃新竹工廠每月產能約1萬至2萬片,臺南工廠產能為1.5萬片。

此外,臺積電公布2022年第一季度營收4910.8億元新臺幣,同比增長35.5%,創下歷史新高。

臺積電認為,高性能運算和車用電子市場需求強勁,加上代工報價調漲,以及新臺幣匯率相對有利,是公司第一季度營收創新高的主要動力。

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